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辐射研究与辐射工艺学报

仪器仪表工业论文_同步辐射束流尺寸测量干涉

文章摘要:基于同步光的干涉测量束流截面尺寸,是一种非拦截高精度的测量手段。相比传统成像法,干涉法可以测量更小的束团尺寸、分辨率更好,较短测量波长下有望获得亚μm级的分辨率,因此在同步辐射光源中得到广泛应用。针对合肥光源HLS II的原有同步光干涉装置进行升级,提出了将原有的干涉光路中第一面聚焦透镜换成RC结构聚焦反射镜,第二面单透镜换成双胶合透镜,以达到在不改变光路光轴情况下减小色散和几何像差,从而提高光路成像质量的目的。采用几何光路设计方法对成像质量进行评价,并进行物理光学仿真计算,得到测量系统的干涉条纹。仿真结果表明:光学系统成像的艾里斑半径减小约35%,点列图的均方根半径减小了约99%,波前差也减小了约75%,调制传递函数(MTF)的截止频率提高了约65%,采用聚焦反射镜代替原有的聚焦透镜可大幅提升光路成像质量。

文章关键词:同步辐射,干涉仪,RC聚焦反射镜,束流横向尺寸,光路设计,

论文作者:孙良伟 罗箐 

作者单位:中国科学技术大学国家同步辐射实验室 

论文分类号: TH744.3

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